計算材料的能帶結構即色散曲線E(k),步驟為(并以計算fcc結構Al的能帶結構為例進行說明):
* 根據(jù)特殊k點的走向,選取特殊k點及特殊k點間的分割點數(shù),準備好產(chǎn)生k點的輸入文件syml
6 !特殊k點的個數(shù)
20 20 20 10 20 !特殊k點間的分割點數(shù)
X 0.5 0.0 0.5 !特殊k點的坐標,相對于倒格子矢量
G 0.0 0.0 0.0
L 0.5 0.5 0.5
W 0.5 0.25 0.75
K 0.375 0.375 0.75
G 0.0 0.0 0.0 !下面三行,前三列是正格子基矢,后三列是倒格子基矢
0.000000000 1.987500000 1.987500000 -0.251572327 0.251572327 0.251572327
1.987500000 0.000000000 1.987500000 0.251572327 -0.251572327 0.251572327
1.987500000 1.987500000 0.000000000 0.251572327 0.251572327 -0.251572327
-20.0 15.0 !在畫能帶結構時,每個特殊k點所對應的豎線的能量范圍
7.068339 !費米能級
* 用程序gk.x產(chǎn)生k點,得到KPOINTS文件。
注釋:程序gk.x是由gk.f文件編譯后得到的目標文件,其輸入文件為syml,輸出文件為KPOINTS, inp.kpt。
* 緊接著利用前面計算得到的自洽電荷密度作一次非自洽的計算。
采用命令解壓保存的電荷密度文件chg.tgz:tar xzvf chg.tgz
另外設置ISTART=1, ICHARG=11, 并增加NBANDS的值,ISMEAR采用默認值
SYSTEM = Al-fcc
ENCUT = 250
ISTART = 1; ICHARG = 11
#ISMEAR = -5
NBANDS = 12
PREC = Accurate
計算完后得到本征值文件EIGENVAL。
注意:對于4.4系列版本,在計算能帶結構時設置NBANDS的值應該與計算自洽的電荷密度時設置的NBADS一致。對4.5以上版本,可以不一致。
* 從自洽電荷密度計算得到的OUTCAR文件中找到倒格子矢量和費米能級,并粘貼到syml文件中,然后用程序pbnd.x把EIGENVAL轉換為成bnd.dat(本征值,并以費米能級為參考零點)和highk.dat(用來畫豎線),然后用軟件origin畫圖。
注釋:程序pbnf.x是通過編譯pbnd.f得到的可執(zhí)行文件,其輸入文件為EIGENVAL和
syml,輸出文件為BANDS、bnd.dat和highk.dat。pbnd.f可以處理自旋極化情況下計算得到的 EIGENVAL,不再輸出bnd.dat而是upbnd.dat和dnbnd.dat這兩個文件,分別對應自旋向上和向下的能帶。
提示:在計算能帶結構時,采用ISMEAR = 0或1對結果的影響非常小,可以認為是一樣的。但是不能采用ISMEAR = -5 或-4。
固體材料的能帶結構由多條能帶組成,能帶分為傳導帶(簡稱導帶)、價電帶(簡稱價帶)和禁帶等,導帶和價帶間的空隙稱為能隙。
能帶結構可以解釋固體中導體、半導體、絕緣體三大類區(qū)別的由來。材料的導電性是由“傳導帶”中含有的電子數(shù)量決定。當電子從“價帶”獲得能量而跳躍至“傳導帶”時,電子就可以在帶間任意移動而導電。
一般常見的金屬材料,因為其傳導帶與價帶之間的“能隙”非常小,在室溫下 電子很容易獲得能量而跳躍至傳導帶而導電,而絕緣材料則因為能隙很大(通常大于9電子伏特),電子很難跳躍至傳導帶,所以無法導電。一般半導體材料的能隙約為1至3電子伏特,介于導體和絕緣體之間。因此只要給予適當條件的能量激發(fā),或是改變其能隙之間距,此材料就能導電。 所有固體物質都是由原子組成的,而原子則由原子核和電子組成。原子核外的電子在以原子核為中心的圓形軌道上運動,距離原子核越遠的軌道其能級(電位能的級別)越高,電子也就越容易脫離原子的束縛,變成可以運動的自由電子。這有點像手上的風箏,放得越高,其運動能量越大,掙脫線的束縛的可能性越大。所以,最外層的電子最活躍,決定了與其他原子結合的方式(化學鍵),決定了該元素的化學性質,也就決定了該原子的價值,因此被稱作為“價電子”。以硅原子為例,其原子核外有14個電子,以“2、8、4”的數(shù)量分布在三個軌道上,里面2和8個電子是穩(wěn)定的,而外部的4個電子狀態(tài)容易發(fā)生變化,因此其物理、化學特性就與它的4個價電子強相關。原子的電子狀態(tài)決定了物質的導電特性,而能帶就是在半導體物理中用來表征電子狀態(tài)的一個概念。在固體電子學中有一套能帶理論,便于研究固體(包括半導體)物質內部微觀世界的規(guī)律。
當原子處于孤立狀態(tài)時,其電子能級可以用一根線來表示;當若干原子相互靠近時,能級組成一束線;當大量原子共存于內部結構規(guī)律的晶體中時,密集的能級就變成了帶狀,即能帶。能帶中的電子按能量從低到高的順序依次占據(jù)能級。下面是絕緣體、半導體和金屬導體的能帶結構示意圖。最下面的是價帶,是在存在電子的能帶中,能量最高的帶;最上面是導帶,一般是空著的;價帶與導帶之間不存在能級的能量范圍就叫做禁帶,禁帶的寬度叫做帶隙(能隙)。絕緣體的帶隙很寬,電子很難躍遷到導帶形成電流,因此絕緣體不導電。金屬導體只是價帶的下部能級被電子填滿,上部可能未滿,或者跟導帶有一定的重疊區(qū)域,電子可以自由運動,即使沒有重疊,其帶隙也是非常窄的,因此很容易導電。而半導體的帶隙寬度介于絕緣體和導體之間,其價帶是填滿的,導帶是空的,如果受熱或受到光線、電子射線的照射獲得能量,就很容易躍遷到導帶中,這就是半導體導電并且其導電性能可被改變的原理。
由于半導體的帶隙窄,電子容易發(fā)生躍遷,因而導電性能容易發(fā)生大的變化;電子狀態(tài)的變化還可能帶來其他效應,比如從高能級到低能級躍遷過程中多余的能量以光子的形式釋放,則產(chǎn)生“發(fā)光”現(xiàn)象。獨特的能帶結構,正是半導體具有百變魔力之源。
能帶理論跟之前的比較具象的電子移動的理論根本不同吧,何來“什么形狀”之說?能帶本質是能級的重疊,能級還有形狀嗎?具體來說:
1、內部電子應該不會分裂成能帶,因為能帶理論是用來解釋導電性等物理特性的理論,參與討論的必須是價電子、以及受激電子,內部電子一般不考慮,所以不存在會不會分裂成能帶的問題;
2、按照理論來說,應該是N越大,能帶就越寬,也就是處于成鍵軌道和反鍵軌道的電子越多,但是此事應該以事實為基礎,理論不見得正確,有可能觀察到的現(xiàn)象并不是這樣;
3、這個我不敢確定,硅的1S和2P?這個不是價電子啊。硅的3S能帶全滿,3P能帶不滿也不空,硅半導體的禁帶能量不大,電子可從價帶躍遷到導帶。至于1S和2P的能級分裂,恕在下無能為力;
4、兩個硅原子?能帶理論針對的是大量的原子,只有大量原子的軌道重疊才能形成類似一條連續(xù)的能量帶一樣的“能帶”,討論兩個硅原子似乎沒什么意義,不過大約就是金屬分子軌道理論里一樣,軌道簡并就好,但是應該不能稱為“能帶”。
5、老實說,不知道。主要是不明白跟內層電子有什么聯(lián)系……
對于這個理論我也實在一知半解,這種問題其實我覺得應該問問化學院的老師們(如果你是學生,不過我估計老師們也可能會有不同的見解),或者查查歷史上相關實驗和資料的文檔。
半導體( semiconductor),指常溫下導電性能介于導體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。
半導體在收音機、電視機以及測溫上有著廣泛的應用。如二極管就是采用半導體制作的器件。
半導體是指一種導電性可受控制,范圍可從絕緣體至導體之間的材料。無論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看,半導體的重要性都是非常巨大的。
今日大部分的電子產(chǎn)品,如計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關連。常見的半導體材料有硅、鍺、砷化鎵等,而硅更是各種半導體材料中,在商業(yè)應用上最具有影響力的一種。
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