目前Freescale半導(dǎo)體公司的ITFET(Inverted T Channel-Field Effect Transistor)技術(shù)實現(xiàn)了在一個單一晶體管中結(jié)合了平面和垂直薄體結(jié)構(gòu),克服了垂直多柵晶體管所面臨的許多設(shè)計和生產(chǎn)上的挑戰(zhàn),有望開創(chuàng)高性能、低功耗、小體積的新一代半導(dǎo)體器件。
通過結(jié)合CMOS的穩(wěn)定性和垂直CMOS的低漏電流等優(yōu)點,該項技術(shù)結(jié)束了平面CMOS和垂直CMOS之間的爭論,在單一器件內(nèi)實現(xiàn)了兩者的綜合優(yōu)點。 由于在垂直溝道下的平面區(qū)混合了硅,并且增加了溝道寬度,ITFET的垂直區(qū)和平面區(qū)可提供增強的電流能力,可降低寄生電阻,增強垂直溝道的機械穩(wěn)定性。
同傳統(tǒng)CMOS相比,該技術(shù)可實現(xiàn)多柵極、有更大的驅(qū)動電流,可降低漏電流,比其他平面薄體CMOS和垂直多柵CMOS具有更多優(yōu)點,如:更低的漏電流、更低的寄生電容、更高的導(dǎo)通電流等。該ITFET技術(shù)計劃應(yīng)用于基于45nm及以上工藝的高端器件。
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知識產(chǎn)權(quán)已經(jīng)在市場經(jīng)濟中特別是具體到商業(yè)競爭中扮演越來越重要的作用。
也有人說:“世界未來的競爭是知識產(chǎn)權(quán)的競爭”,這從一定程度上充分說明了知識產(chǎn)權(quán)的重要性。怎樣形成核心競爭力,怎樣保持競爭優(yōu)勢,在這其中知識產(chǎn)權(quán)起到?jīng)Q定性的作用;但前提是必須充分保護所擁有的知識產(chǎn)權(quán)諸如商標(biāo)、專利、著作權(quán)、集成電路布圖設(shè)計權(quán)、植物新品種權(quán)以及產(chǎn)地標(biāo)記權(quán)、商業(yè)秘密權(quán)、商號權(quán)等,同時充分利用與運作,并逐漸構(gòu)建自身的知識產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略運作體系,才能充分發(fā)揮知識產(chǎn)權(quán)對企業(yè)發(fā)展與保持競爭優(yōu)勢的巨大推動作用。
一、知識產(chǎn)權(quán)概述 知識產(chǎn)權(quán)是指人們對于自己的智力勞動所創(chuàng)造的智力成果以及生產(chǎn)經(jīng)營管理活動中的標(biāo)記、信譽等依法享有的專有權(quán)利。是將無形的人類智力活動創(chuàng)造的成果與傳統(tǒng)的產(chǎn)權(quán)理論相結(jié)合而產(chǎn)生的一種新的財產(chǎn)權(quán),其與普通財產(chǎn)權(quán)一樣也具有相應(yīng)的知識財產(chǎn)標(biāo)的的轉(zhuǎn)讓、收益、使用、處分等,只是其權(quán)利持有人的這些基本權(quán)利的享有和應(yīng)用與普通財產(chǎn)權(quán)有著細微上的區(qū)別,特別是法律規(guī)制方面。
明確產(chǎn)權(quán)的好處在于交易的雙方能有一個合理的預(yù)期,對個人成本有一定的認知與控制,努力彌合與社會成本的偏離,促進市場活力,擴大公平競爭,推進技術(shù)轉(zhuǎn)化和交流,實現(xiàn)個體與社會的共贏。 明確知識產(chǎn)權(quán),重視產(chǎn)權(quán)的能動作用,利用產(chǎn)權(quán)界定和制度,使其契合公司的整體發(fā)展與愿景設(shè)計及價值重組,可以進一步促進資源的使用和整合,從而使市場中的這種制度安排也即某種游戲規(guī)則最大限度的服務(wù)公司整體發(fā)展并實現(xiàn)效益最大化。
因為任何交易均存在一定風(fēng)險,而最大的風(fēng)險莫過于這種交易的游戲規(guī)則不明確甚或不存在,所以充分了解知識產(chǎn)權(quán)并注重其法律規(guī)制與保護,不但可以有效避免侵權(quán)糾紛,充分發(fā)揮市場效力,更可降低交易成本,增進交易機會,擴展知識產(chǎn)權(quán)的流通等。 此外,資源的使用與整合特別是知識產(chǎn)權(quán)更應(yīng)該講究效率,而其受制于一定地區(qū)、國家的相應(yīng)制度選擇、安排與維護,而這均需要成本,所以為最切實的利用與保護相應(yīng)知識產(chǎn)權(quán)并為公司創(chuàng)益,則明晰知識產(chǎn)權(quán)就極為重要。
二、知識產(chǎn)權(quán)保護 在競爭激烈的市場環(huán)境中,在各種不正當(dāng)競爭涌現(xiàn)的當(dāng)下,對于自身的商標(biāo)、專利、著作權(quán)作品、商業(yè)秘密、產(chǎn)地標(biāo)記、廠商名稱、商號、集成電路布圖設(shè)計、植物新品種等進行有效維護與保護就顯得相當(dāng)重要。必須有一個適應(yīng)市場變化并嚴密的知識產(chǎn)權(quán)保護體系,同時注意收集并保存日常經(jīng)營管理活動中的相關(guān)使用證據(jù)、維權(quán)記錄等,并在出現(xiàn)侵權(quán)糾紛時選擇最佳的訴訟策略。
此處可參考白家與白象的知識產(chǎn)權(quán)紛爭中白家的慘痛教訓(xùn)。 1、收集并保存使用證據(jù) 可以有效證明相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)的最早使用;便于在侵權(quán)糾紛發(fā)生時及時、有效、準(zhǔn)確地提供具體使用證據(jù),以最大限度維護自身權(quán)益;有助于最佳維權(quán)策略的選擇等 2、合法、正確使用商標(biāo)、專利等知識產(chǎn)權(quán)標(biāo)的 只有合法的、正確的使用相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)標(biāo)的,才能形成有效的使用證據(jù),才能得到相關(guān)法律的保護與認可,才能最終為自身利益創(chuàng)收。
3、及時將涉及公司發(fā)展愿景和多元化整合的相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)標(biāo)的進行登記、申請等法律操作手段 4、將知識產(chǎn)權(quán)標(biāo)的進行交叉保護,發(fā)揮法律保護的最大效應(yīng) 如將典型的著作權(quán)作品的文字、圖形等申請為相關(guān)產(chǎn)品或服務(wù)的商標(biāo),或圖文并茂的商標(biāo)申請著作權(quán)登記;以及將其與相應(yīng)產(chǎn)品相結(jié)合而創(chuàng)作外觀設(shè)計并申請為專利;也可將某外觀設(shè)計進行商標(biāo)注冊申請;將著作權(quán)中的計算機軟件與專利進行交叉申請保護等,利用相互間的保護優(yōu)勢并克服彼此的保護漏洞,實現(xiàn)知識產(chǎn)權(quán)保護最大化,以真正維護權(quán)利持有人的相應(yīng)權(quán)益,并合理有效的最大限度為其創(chuàng)造經(jīng)濟效益和企業(yè)效益及社會效益。 三、知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)新 創(chuàng)新是公司發(fā)展的源泉,是市場競爭力的核心,而這其中關(guān)于知識產(chǎn)權(quán)的創(chuàng)新更是重中之重,特別是對于那些研發(fā)、科技型企業(yè)。
1、著作權(quán)中的計算機軟件及其有效整合可以進一步開發(fā)順應(yīng)時代、順應(yīng)市場新變化、順應(yīng)產(chǎn)品需求等開發(fā)并創(chuàng)作,對于進入公有領(lǐng)域的相應(yīng)軟件的技術(shù)點進行聯(lián)想并深化,同時對于其存在的缺陷進行功能彌補與開發(fā)等都可形成新的計算機軟件或是發(fā)明專利等。 2、產(chǎn)品或服務(wù)商標(biāo)應(yīng)隨著新的市場需求、產(chǎn)品多元化發(fā)展、產(chǎn)品定位、產(chǎn)品差異及消費者的喜好等設(shè)計并使用能表示產(chǎn)品檔次、產(chǎn)品性能的潛在商標(biāo)、備用商標(biāo)以及保護性商標(biāo)。
3、方法或產(chǎn)品發(fā)明、產(chǎn)品的實用新型與外觀設(shè)計等應(yīng)形成自有專利為基礎(chǔ),同時向與此相關(guān)的技術(shù)方向進行研發(fā),力求實現(xiàn)一定的專利體系,以獲取市場占有率,增強技術(shù)成果轉(zhuǎn)化的能力,占據(jù)一定的競爭地位,以對抗與自身發(fā)展方向和技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域相近的企業(yè)所具有的發(fā)明程度較高的專利產(chǎn)品或?qū)@夹g(shù),并可有效實現(xiàn)因自身研發(fā)不足及在先專利的權(quán)利限制等因素制約企業(yè)發(fā)展與技術(shù)創(chuàng)新,通過專利交叉許可就可有力避免。 四、知識產(chǎn)權(quán)使用 知識產(chǎn)權(quán)的最大效應(yīng)就是給權(quán)利持有人帶來可觀的經(jīng)濟效益,而其實現(xiàn)就是要通過一定的合約設(shè)計或曰制度安排所形成的交易游戲規(guī)則來進行,首先必須保證其流通,只有確保其流通性才能給相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)交。
這個行業(yè)前景不錯,據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院《2016-2021年中國集成電路行業(yè)市場需求預(yù)測與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報告》顯示, 集成電路產(chǎn)業(yè)作為國民經(jīng)濟和社會發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),具有極強的創(chuàng)新力和融合力,已經(jīng)滲透到人民生活、生產(chǎn)以及國防安全的方方面面。國際金融危機后,世界各國都在努力探尋經(jīng)濟轉(zhuǎn)型之路,加快培育發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè),力爭在后危機時代的全球經(jīng)濟發(fā)展和競爭中贏得先機。擁有強大的集成電路技術(shù)和產(chǎn)業(yè),已成為邁向創(chuàng)新型國家的重要標(biāo)志。據(jù)前瞻產(chǎn)業(yè)研究院統(tǒng)計,2014年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模達到3331億美元,同比增長9%,為近四年增速之最。據(jù)ICInsight統(tǒng)計的全球GDP與集成電路產(chǎn)業(yè)的年均增長率比較,可以清楚地看到集成電路產(chǎn)業(yè)增長緩慢,正逐步接近GDP,表明了全球集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)成為成熟產(chǎn)業(yè);并且強調(diào)成本協(xié)同、強調(diào)規(guī)模經(jīng)濟的產(chǎn)業(yè)特征,也表明了這一產(chǎn)業(yè)己經(jīng)成為成熟產(chǎn)業(yè)。
兼并重組可能是集成電路產(chǎn)業(yè)最好的切入點
未來幾年,全球集成電路產(chǎn)業(yè)將進入重大調(diào)整變革期,隨著投資規(guī)模迅速攀升,市場份額加速向優(yōu)勢企業(yè)集中,不少領(lǐng)域?qū)⑿纬?-3家企業(yè)壟斷局面。此外,國際企業(yè)通過構(gòu)建合作聯(lián)盟、兼并重組、專利布局等方式強化核心環(huán)節(jié)控制力,市場進入壁壘進一步提高。全球集成電路產(chǎn)業(yè)依然“大者恒大”;產(chǎn)業(yè)技術(shù)革新難度加大,速度開始變緩,技術(shù)競爭愈發(fā)激烈;迅速增長的中國市場帶動著全球產(chǎn)業(yè)發(fā)展,“中國效應(yīng)”引領(lǐng)集成電路產(chǎn)業(yè);在市場競爭的壓力下,商業(yè)模式悄然變化——眾多IDM工廠紛紛轉(zhuǎn)向“輕晶圓廠”模式或代工模式,搶入全球晶圓代工行列;全球集成電路產(chǎn)業(yè)呈現(xiàn)出從發(fā)達地區(qū)向發(fā)展中國家和地區(qū)轉(zhuǎn)移的趨勢。伴隨著行業(yè)集中度越來越高,行業(yè)發(fā)展也逐步結(jié)束過去高增長和周期性波動的發(fā)展局面,開始步入平穩(wěn)發(fā)展階段,產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整步伐加速,IC設(shè)計業(yè)與晶圓代工業(yè)呈現(xiàn)異軍突起之勢。產(chǎn)業(yè)重心進一步向亞洲,特別是向中國大陸轉(zhuǎn)移。中國大陸將成為全球半導(dǎo)體市場的主要增長點,而中國集成電路產(chǎn)業(yè)的全球地位快速提升,產(chǎn)業(yè)鏈日漸成熟,為我國集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了良好的機遇。
1958年美國德克薩斯儀器公司發(fā)明全球第一塊集成電路后,隨著硅平面技術(shù)的發(fā)展,20世紀60年代先后發(fā)明雙極型和MOS型兩種重要電路,創(chuàng)造了一個前所未有的具有極強滲透力和旺盛生命力的新興產(chǎn)業(yè)——集成電路產(chǎn)業(yè)。
一、什么是集成電路產(chǎn)業(yè) 1、集成電路 集成電路是采用半導(dǎo)體制作工藝,在一塊較小的單晶硅片上制作許多晶體管及電阻器、電容器等元器件,并按照多層布線或隧道布線的方法將元器件組合成完整的電子電路,通常用“IC”(Integrated Circuit)。 與集成電路相關(guān)的幾個概念: 晶圓:多指單晶硅圓片,由普通硅沙拉制提煉而成,是最常用的半導(dǎo)體材料,按其直徑分為4英寸、5英寸、6英寸、8英寸等規(guī)格,近來發(fā)展出12英寸甚至更大規(guī)格。
晶圓越大,同一圓片上可生產(chǎn)的IC就多,可降低成本,但要求材料技術(shù)和生產(chǎn)技術(shù)更高。 光刻:IC生產(chǎn)的主要工藝手段,指用光技術(shù)在晶圓上刻蝕電路。
前、后工序:IC制造過程中, 晶圓光刻的工藝(即所謂流片),被稱為前工序,這是IC制造的最要害技術(shù);晶圓流片后,其切割、封裝等工序被稱為后工序。 線寬:4微米/1微米/0.6微米/0.35微米/90納米等,是指IC生產(chǎn)工藝可達到的最小導(dǎo)線寬度,是IC工藝先進水平的主要指標(biāo)。
線寬越小,集成度就高,在同一面積上就集成更多電路單元。 封裝:指把硅片上的電路管腳,用導(dǎo)線接引到外部接頭處,以便與其它器件連接。
2、集成電路產(chǎn)品分類 集成電路產(chǎn)品一般是以內(nèi)含晶體管等電子組件的數(shù)量即集成度來分類,即分成:①小型集成電路(SSI),晶體管數(shù)10~100;②中型集成電路(MSI),晶體管數(shù)100~1000;③大規(guī)模集成電路(LSI),晶體管數(shù)1000~10,0000;④超大規(guī)模集成電路(VLSI),晶體管數(shù)10,0000~。 3、集成電路產(chǎn)業(yè)鏈 一條完整的集成電路產(chǎn)業(yè)鏈除了包括設(shè)計、芯片制造和封裝測試三個分支產(chǎn)業(yè)外,還包括集成電路設(shè)備制造、關(guān)鍵材料生產(chǎn)等相關(guān)支撐產(chǎn)業(yè)。
如果按照集成電路產(chǎn)業(yè)鏈上下游產(chǎn)業(yè)劃分,可簡單的劃分為集成電路設(shè)計業(yè)和制造業(yè),其中制造業(yè)又衍生出代工業(yè)。目前美國仍是集成電路產(chǎn)品設(shè)計和創(chuàng)新的發(fā)源地,全球前20家集成電路設(shè)計公司大都在美國。
集成電路代工業(yè)主要分布在亞洲,其中我國臺灣地區(qū)和韓國是目前世界集成電路代工企業(yè)最重要的聚集地之一。 二、集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀與展望 (一)全球集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況 1、世界集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀 美國、日本、韓國和臺灣地區(qū)是當(dāng)今世界集成電路產(chǎn)業(yè)的佼佼者,尤其美、日和歐洲等國家占據(jù)產(chǎn)業(yè)鏈的上游,掌握著設(shè)計、生產(chǎn)、裝備等核心技術(shù)。
隨著信息產(chǎn)品市場需求的增長,尤其通過通信、計算機與互聯(lián)網(wǎng)、電子商務(wù)、數(shù)字視聽等電子產(chǎn)品的需求增長,世界集成電路市場在其帶動下高速增長。2005年世界集成電路市場規(guī)模為2357億美元,預(yù)計2010年間平均每年增長不低于10%,總規(guī)模將達到4247億美元。
多年來,世界集成電路產(chǎn)業(yè)一直以3-4倍于國民經(jīng)濟增長速度迅猛發(fā)展,新技術(shù)、新產(chǎn)品不斷涌現(xiàn)。目前,世界集成電路大生產(chǎn)已經(jīng)進入納米時代,全球多條90納米/12英寸的生產(chǎn)線用于規(guī)?;a(chǎn),基于70-65納米水平線寬的生產(chǎn)技術(shù)已基本成形,Intel公司的CPU芯片已經(jīng)采用45納米的生產(chǎn)工藝。
目前,世界最高水平的單片集成電路芯片上所容納的元器件數(shù)量已經(jīng)達到80多億個。 2、集成電路技術(shù)發(fā)展趨勢 (1)集成電路設(shè)計。
目前,世界集成電路技術(shù)已經(jīng)進入納米時代,國際高端集成電路主流技術(shù)的線寬是0.13-0.25微米,國際高端集成電路領(lǐng)先技術(shù)的線寬是0.065-0.13微米。我國已經(jīng)能夠自行設(shè)計0.18微米、1000萬門級的集成電路,有的企業(yè)甚至已經(jīng)達到設(shè)計0.13微米的技術(shù)水平。
未來5-10年面向系統(tǒng)級芯片(SOC)的設(shè)計方法將成為技術(shù)熱點,設(shè)計線寬將達到0.045微米,芯片集成度將達到10的8-9次方,電子設(shè)計自動化(EDA)技術(shù)廣泛應(yīng)用,IP復(fù)用技術(shù)將得到極大完善。 (2)芯片制造。
目前國際高端集成電路晶片直徑是12英寸,近年內(nèi)16英寸晶片將面世,納米級光刻工藝將廣泛使用,新型器件結(jié)構(gòu)的產(chǎn)生將帶動新工藝產(chǎn)生。 (3)封裝。
現(xiàn)有占主流的陣列式封裝方式將讓位給芯片級、晶片級封裝,更先進的系統(tǒng)級等封裝方式將進入實用化。芯片實現(xiàn)表面貼裝,封裝與組裝界限將消失。
(二)國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)主要情況及發(fā)展展望 1、基本情況 自1965年,我國研制出第一塊雙極型集成電路以來,經(jīng)過40多年的發(fā)展,我國集成電路產(chǎn)業(yè)目前已初步形成了設(shè)計業(yè)、芯片制造業(yè)及封裝測試業(yè)三業(yè)并舉、比較協(xié)調(diào)的發(fā)展格局,出現(xiàn)長江三角洲、京津地區(qū)和珠江三角洲三個相對集中的產(chǎn)業(yè)區(qū),建立了多個國家集成電路產(chǎn)業(yè)化基地。制造業(yè)的技術(shù)工藝已進入國際主流領(lǐng)域,設(shè)計和封裝技術(shù)接近國際水平,但我國的整體水平與國際水平相差2-3代。
目前我國已在北京和無錫分別建成代表國際領(lǐng)先技術(shù)水平的12英寸集成電路生產(chǎn)線,另外,湖北省和武漢市共同投資的一條12英寸生產(chǎn)線于2006年6月開工,中芯國際在上海的12英寸集成電路生產(chǎn)線擴建項目即將破土動工。 2006年中國整個半導(dǎo)體市場規(guī)模突破5800億元,而其中集成電路市場占了絕大部分。
2006年中國集成電路市場。
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